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全反射X熒光光譜儀的應(yīng)用范圍和主要特點(diǎn)

更新日期: 2016-06-27
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    全反射X熒光光譜儀原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對(duì)比的是“傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級(jí)X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以zui大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生,同時(shí)減小了載體的背景和噪聲”。全反射X熒光光譜儀將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺(tái)儀器上,創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī),角度測(cè)量,軟件控制Mo/W靶可自由切換,采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測(cè)器。
    全反射X熒光光譜儀應(yīng)用范圍:可檢測(cè)從Na到Pu所有元素含量,可進(jìn)行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),廣泛的應(yīng)用在環(huán)境分析(水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物),制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素),法醫(yī)學(xué)(微小證據(jù)分析),化學(xué)純度分析(酸、堿、鹽、溶劑、水、超純?cè)噭?,油品分析(原油、輕質(zhì)油、燃料油),染料分析(墨水、油漆、粉末),半導(dǎo)體材料分析(揮發(fā)相分解),核材料工業(yè)(放射性元素分析)。
    全反射X熒光光譜儀主要特點(diǎn):
     1、單內(nèi)標(biāo)校正,極大的簡化了定量分析,無基體影響;
     2、對(duì)于任何基體的樣品可單獨(dú)進(jìn)行校準(zhǔn)和定量分析;
     3、多元素實(shí)時(shí)分析,可進(jìn)行痕量和超痕量分析;
     4、不受樣品的類型和不同應(yīng)用需求影響;
     5、*的液體或固體樣品的微量分析,分析所需樣品量小;
     6、的檢出限水平,元素分析范圍從鈉覆蓋到钚;
     7、的動(dòng)態(tài)線性范圍;
     8、無需任何化學(xué)前處理,無記憶效應(yīng);
     9、非破壞性分析,運(yùn)行成本低廉。

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